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详细说明
退火爐
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設備主要用于真空環境下的樣品退火工藝，可實現多種退火工藝。
真空系統：分子泵系統
樣片數量及尺寸：2盤，400mm*400mm
退火溫度：室溫-750 C
溫度控制：多段分段控制，控溫精度1%
表面溫度不均勻性：＜ ±3'C (125C ,中心150mm* 150mm)
＜ ± 5 C (750 C , 400mm*400mm)
氣體保護：氮氣
操作模式：全自動方式+半自動方式
