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详细说明
NLS Imprinting. INC紫外納米壓印設(shè)備
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可供實驗室研發(fā)使用的UV納米壓印設(shè)備，通過一步驟和Auto-ReleaseTM自動脫膜技術(shù)，同時壓印效果可達(dá)10nm，且具備準(zhǔn)確套刻能力，該技術(shù)由惠普實驗室研發(fā)(HP Lab.).該設(shè)備是業(yè)內(nèi)最具性價比的產(chǎn)品，在業(yè)內(nèi)多家著名的納米實驗室使用。
可實現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制
可實現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無需昂貴的工藝設(shè)備。
典型應(yīng)用
在硅片上制作納米級光柵
壓印易碎的材料（例如III-V族材料）
微結(jié)構(gòu)加工
制作壓印印章
保護(hù)母版的適用壽命
熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形