全息納米光刻設(shè)備
新開發(fā)的一款全息光刻設(shè)備，該設(shè)備可低成本的制作較大面積的1D/2D/3D 的納米圖案結(jié)構(gòu)。
該設(shè)備無需使用掩膜版、及納米壓印模板，只需選擇圖形制作的類型，并設(shè)計(jì)圖形結(jié)構(gòu)(光柵、方形結(jié)構(gòu)、圓柱結(jié)構(gòu)、鉆石結(jié)構(gòu)等)，設(shè)置曝光程序，即可獲得大面積的均勻納米結(jié)構(gòu)圖形。
主要性能：
可完成250nm周期結(jié)構(gòu)制作（125nm線寬）
可高效完成大面積1D/2D/3D 納米級(jí)結(jié)構(gòu)制作
一次完成納米結(jié)構(gòu)制作
無需掩膜版
無需壓印模板
高均勻性低缺陷結(jié)構(gòu)
適用光柵結(jié)構(gòu)、晶格結(jié)構(gòu)、PSS圖形襯底
低成本、快速制作納米結(jié)構(gòu)
適用于平面及曲面結(jié)構(gòu) 2英寸全面積納米結(jié)構(gòu)制作只需1分鐘
主要應(yīng)用：
納米結(jié)構(gòu)制作
大面積光柵結(jié)構(gòu)
SERS 表面增強(qiáng)散射
光子晶體
LED
太陽能
PSS圖形
納米絲襯底等
